某半导体设备加工处理器制造出厂在晶圆粗加工具体步骤中，安全使用硅烷参与硅概念的生长，排放洗滌塔引发高有机废气浓度含硅生产废气。生产废气更具pH变化大（2-11）、硅含铁高的作用，传统的加工处理方式 易存在硅垢空气能管道堵塞故障 。 焦化废水的成分及原因 工业废水主要的基本成分为： 降解性硅酸盐 ：SiO₂盐浓度达1000-1500mg/L 氢被氧化钠/氢被氧化钠 ：清洗剂塔酸性清洗剂液无残留 粒状硅 ：納米级SiO₂氢氧化铁 痕量砷 ：成分硫氰酸盐带进 工作生产技术标准流程 革新用"二级结合+膜过滤系统+减压蒸馏心得"鑫霖环保： 一级通过成绩结合 ：用CaO设定pH至4-5，转成硅酸钙沉淀物，硅快速清理率60%。 一级中合 ：加Na₂CO₃将pH优化至9，进一大步放置结余硅，电容串联用镁剂除砷。 反渗透装置系統 ：0.02μm卫浴陶瓷膜过滤程序納米级硅科粒，通量不稳定性在80LMH。 MVR冷疑器器 ：浓缩液高盐废水处理工艺，结晶体出Na₂SO₄副新产品，水造纸废水处理率超90%。 不可能特效 总硅从1500mg/L减至5mg/L一下 砷分子量从0.8mg/L降为0.01mg/L 装置无水垢正常运作达到2年 几乎每年收回磷酸钠氯化钠晶体约800吨