半导体晶圆划片废水处理案例|半导体晶圆划片废水处理方法
的项目底色
这工程设在长角形城市某的省市级半导体材料产业发展各园,各个企业包括研发84寸大和124寸大晶圆,每日量达到2万片。发生变化扩产不断提升,本来的的废渣解决整体已是无法符合绿色环保耍求,急求升到办理。工程总的投资约11000万元,设定解决业务能力为300吨/日,于202在一年建设投用。
废水处理的成分及来原
该公司企业晶圆片区程序引发的废水处理方法通常包函下类组分:
打孔步骤中实用的精磨液留下物,最主要的的成分为二被氧化硅颗粒物、表皮灵相转移催化剂和生物碳添加图片剂
晶圆漆层的洗涤出现的含氟电镀废水,氟化合物质量浓度在80-120mg/L
少许天价属亚铁离子如铜、镍等,出自于切割器软件有损坏
有机质萃取剂残存,涉及到异丙醇、甲苯等
pH值变化较少,一般说来在4-10左右
处里加工流量
造成污水特质,设计的主要包括"化学预净化整理+生化模式净化整理+的深度净化整理"的组合名字工序:
缓解池
:动态平衡水源发电量,制定pH网络监测数据和会自动加量体统
沥青混凝土沉定
:添加PAC和PAM,剔除漂浮物和悬浊液材质
气浮机组
:利用溶气气浮工艺流程进一个步骤清理体积小粉末和部份无机物
什么是生化净化处理
:用到MBR膜动物反映器,厌氧颗粒污泥溶液浓度保持在8000-10000mg/L
程度解决
:灵活性炭吸附剂吸附剂+反参透加工制作工艺 ,提高认识溢水及格
活性污泥处理
:板框压泥机脱水怎么办,飞灰含水量率调至60%以内
补救成效
体系增强加载后,喷水饮用水质完整做到《电子器材产业水水污物排放口规范标准规范标准》(GB39731-2020)格外排放口规范标准规定值的要求:
COD<30mg/L
氟阴离子<5mg/L
悬屏物<10mg/L
高价属各类要求均降至卫生防护距离
工程一年可变少废弃物物排污量约COD 32吨、氟化物8.5吨,循环水率符合75%上述,为行业最省电费收支约140万元/年。