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半导体含氟废水处理案例|半导体含氟废水处理方法

活动历史背景 该半导体行业研制单位应用于西北东南部,大部分的生产集成型用电线路电源芯片,日废气排放口含氟废渣约800吨。因地方安全要加强,原本加工补救配制时未要氟化物废气排放口溶液浓度压低5mg/L的新要,单位投资的1捌佰元刚刚建立靠谱含氟废渣加工补救体统。 废水处理有效成分及来源地 电镀废水属于是的来起源集成ic制造技术的过程 中的刻蚀繁琐流程和家电清洗繁琐流程,属于是废弃物物属于: 氟化合物氧浓度:300-800mg/L pH值:2- 富含少量出硅酸盐、聚磷酸盐 微量分析巨资属如铜、镍等 处理制作工艺具体流程 用"预处里+化学上沉积+的深度处里"组合名字加工过程: 上下调整池:平衡水源用水量,设制pH迅雷环境监测站 五级想法池:加药系统氢氧化物钙,调节pH至7-8,养成氟化钙结晶 两级发展物池:发展物分离出来氟化钙飞灰 下级反应迟钝池:添加氯化钙和整合氯化铝,进一次彻底清除的残留物氟阴阳离子 两级沉定物池:分次沉定物隔离 砂滤设计:除掉漂浮物 抗逆性炭离心分离:清掉生物碳物和轻微高价属 废水加工系统性:板框压滤出现脱水,废水含水分率减少为60%下 最终能够感觉 控制系统加载稳定可靠后,有水出水环境: 氟化合物有机废气浓度:2.1-3.8mg/L pH值:6.5-7. SS<5mg/L 天价属浓度均超过查出限 仍然充分考虑《电子元器件工农业水水废弃物释放准则》(GB39731-2020)规范要求,次年限制氟化物释放约180吨。

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