半导体封装废水怎么处理方法|半导体封装废水处理案例
品牌环境
该中小型商家坐落在沙漠风省昆山市,关键具备高端品牌半导心片的封裝测试软件,日进行减排废需水量约200吨。因此研发期间中便用多样化学工业药液,废液组成比较复杂,内含高充分废气浓度铜、镍等高价属已经固化剂树脂胶、光刻胶等充分污染问题物。中小型商家和原有处里装置始终无法 实现最新信息进行减排规范标准,急求升級改革。
污水组分及的来源
电镀锌废液
:种类于处理芯片引脚塑料电镀工艺程序,所含铜、镍、锡等血本属亚铁离子,pH值下跌大。
生产生活污水
:包括来源于封裝胶固化型、光刻流程,富含氯化橡胶漆光敏树脂、异丙醇、二甲苯等有机化学dmf溶剂。
耐酸碱废水处理工艺
:引发于晶圆拆洗和蚀刻工作,含盐酸、磷酸、氢被氧化钠等。
净化处理技术具体步骤
预除理阶段中,
酸碱度中合
:使用投加仪器调结pH至6-9,应对事后除理仪器被腐蚀。
混凝土沉淀物中
:污泥脱水PAC(汇聚氯化铝)和PAM(聚乙烯酰胺),清掉漂浮物和要素天价属。
核心理念处理关键期
高阶腐蚀
:采取Fenton采血管(H₂O₂+Fe²⁺)吸附难生物降解可挥发物,COD洗去率达70%之上。
膜滤水
:反融入装置(UF)+反融入(RO)组合公式流程,进步挤占血本属和消融性无机物。
程度办理时段
阴离子对调
:专做应对铜、镍阴离子,为了保证溢水血本属含碳量小于0.5mg/L。
亲水性炭溶解
:做为终究得到保障,清除留下进样器有机化学物。
既定疗效
经净化处理后,留水饮加水质以达到《光电工业园水影响物产生规定》(GB 39731-2020):COD<50mg/L、铜<0.3mg/L、镍<0.1mg/L,循环率提高自己至60%,每一年的浪费加水成本费用约80万余元。